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丸尾教授らが、SIPプロジェクトで開発している超3D造形技術プラットフォームの研究成果、特に、3Dマイクロ光造形とトポロジー最適化を融合したマイクロデバイスの設計・開発に関して、平成30年4月22−26日にシンガポールで開催される国際会議IEEE NEMS2018で発表を行います。


丸尾教授らが、SIPプロジェクトで開発している超3D造形技術プラットフォームの研究成果、特に、3Dマイクロ光造形とトポロジー最適化を融合したマイクロデバイスの設計・開発に関して、平成30年4月22−26日にシンガポールで開催される国際会議IEEE NEMS2018で発表を行います。

学会日時:平成30年4月22日(日)~4月26日(木)
発表日:平成30年4月24日(火)
場所:Grand Hyatt Singapore
発表者:横浜国立大学大学院 工学研究院 丸尾 昭二 教授

詳細につきましては、以下のサイトをご参照ください。
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